化 学 特 別 講 義
講師: 谷本 裕樹 先生
(奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 反応制御科学研究室 助教)
演題: 窒素官能基の新しい合成的利用法:アジド―アリルアルコールの温和かつ迅速な不飽和
イミンへの変換反応、ならびにジアゾメチル基を利用した新規光解離性保護基の開発
日時: 2012 年 7月20 日(金) 16:10~17:40
場所: 11-6 教室(11 号館2 階)
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