設置機器紹介

ICP-MS用レーザーアブレーション装置

【登録名称】

ICP-MS用レーザーアブレーション装置

【登録番号】

30

【正式名・メーカー・型式】

レーザーアブレーション装置・NEW WAVE RESEARCH・UP 213 Universal Platform

【概要・得られる情報】

ICP-MS装置への試料導入に用いられる。 集光したレーザーを物質に照射すると固体表面で蒸発とスパッタリングが起きる。 こうして生じた試料エアロゾルがキャリアガスによってICP-MS装置のプラズマ中へ運ばれ，原子化・イオン化される。 LA装置により固体の直接分析が可能になるため，試料の前処理溶液化が不要となり迅速な測定を行うことができる。 幅広い物質の分析に利用でき，局所分析・元素マッピングも可能である。 また，深UV領域213 nmのNd：YAGレーザー搭載により，ガラスのような透明な試料のアブレーションが従来の装置と比較して格段に改善されている。

【運営責任者・連絡先】

応用化学科　中井 泉 (内線5761)

利用に際して

利用登録制とします。 初めて使用する場合には，指導教員を通じて，中井研まで申し出てください。
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