当センターの設置機器および設備の利用規程・マニュアルの一覧です。 登録No.順に並んでいます。 機器名をクリックする機器の詳細を開きます。
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登録No. | 機器名称 | メーカー・型式 | 利用規程 | マニュアル |
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6 | 固体高分解能核磁気共鳴装置 | JEOL・CMX300 | 利用規程 | マニュアル |
7 | シーケンシャル型ICP発光分析装置 | SIIナノテク・SPS3520UV | 利用規程 | |
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9 | ICP質量分析装置 | ICP-MS 7850 | 利用規程 | マニュアル |
10 | 全自動元素分析装置 | Perkin Elmer・2400 II CHNS/O | ||
11 | 赤外吸収装置 | JASCO・FT-IR 466ST | 利用規程 | マニュアル |
12 | 超高分解能走査電子顕微鏡 | HITACHI・S-5000 | ||
13 | 走査電子顕微鏡 | HITACHI・S-2380N | ||
14 | ウルトラミクロトーム | Leica・REICHERT-NISSEI ULTRACUT S | 利用規程 | マニュアル |
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16 | 電子スピン共鳴装置 | JEOL・JES-FA200 | 利用規程 | マニュアル |
17 | CPAD搭載単結晶X線構造解析装置 | Bruker・D8 QUEST | 利用規程 | マニュアル |
18 | 自動X線回折装置 (高分子・広角) | Rigaku・RINT2500 | 利用規程 | マニュアル |
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20 | 自動X線回折装置 (粉末) | Rigaku・RINT2500 | 利用規程 | マニュアル |
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23 | 質量分析装置 | JEOL・JMS-AX505HA | 利用規程 | マニュアル |
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25 | 自動X線回折装置 (高分子・小角) | Rigaku・Geiger Flex RAD-IIIA | 利用規程 | マニュアル |
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27 | 旋光計 | JASCO・P-1010 Polarimeter | 利用規程 | マニュアル |
28 | 核磁気共鳴装置 (300) | Bruker BioSpin・AVANCE DPX-300 | 利用規程 | マニュアル |
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30 | ICP-MS用レーザーアブレーション装置 | NEW WAVE RESEARCH・UP-213 | 利用規程 | マニュアル |
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32 | 紫外可視分光光度計 | SHIMADZU・UV-3150PC | 利用規程 | マニュアル |
33 | 分光蛍光光度計 | SHIMADZU・RF-6000 | 利用規程 | マニュアル |
34 | X線分析顕微鏡 | HORIBA・XGT-2700 | 利用規程 | マニュアル |
35 | 走査型プローブ顕微鏡(AFM:画像取得用) | SIIナノテクノロジー・S-image | 利用規程 | マニュアル |
36 | 小角X線回折装置 | Rigaku・Ultimate-IV | 利用規程 | マニュアル |
37 | 共焦点レーザースキャン顕微鏡 | CARL-ZEISS・LSM710 | 利用規程 | マニュアル |
38 | 熱分析システム | Bruker AXS・MS9610/DSC3200A/TG-DTA2010SA | 利用規程 | マニュアル |
39 | 走査電子顕微鏡 | HITACHI・S-4800 | 利用規程 | マニュアル |
40 | 走査型プローブ顕微鏡(AFM:フォース測定用) | アサライム・MFP-3D-BIO-J | 利用規程 | マニュアル |
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42 | 高速近赤外フォトルミネッセンス測定装置 | SHIMADZU・NIR-PL-System | 利用規程 | マニュアル |
43 | 超高感度等温適定型熱量計 | GEヘルスケア・iTC200 | 利用規程 | マニュアル |
44 | 蛋白質精製用3波長同時測定液体クロマトグラフィー | GEヘルスケア・AKTApurifier-10 | 利用規程 | マニュアル |
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46 | ESI-TOF-MS | Bruker Daltonics・microTOF-NR-focus | 利用規程 | マニュアル |
47 | 走査型電子顕微鏡(SEM-EDS) | JEOL・JSM7001F | 利用規程 | マニュアル |
48 | フローサイトメーター | BD・FACSCanto II | 利用規程 | マニュアル |
49 | 環境適応型TG測定装置 | Bruker AXS・TG2000SA | 利用規程 | マニュアル |
50 | ナノ秒時間分解分光測定装置 | ユニソク・TSP-1500M-01TO | 利用規程 | マニュアル |
51 | SQUID磁束計 | Quantum Design・MPMS-XL | 利用規程 | マニュアル |
52 | MALDI-TOF-MS | JEOL・JMS-S3000 | 利用規程 | マニュアル |
53 | 高周波溶融装置 | TK-4200およびTK-4910 | ||
54 | DART-TOF-MS | JEOL・AccuTOF JMS-T100LP | 利用規程 | マニュアル |
55 | 単結晶X線回折装置 | Rigaku・R-AXIS RAPID | 利用規程 | マニュアル |
56 | デスクトップX線回折装置 | Rigaku・MiniFlex600 | 利用規程 | マニュアル |
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72 | 動的光散乱(DLS)装置 | ゼータサイザーナノZS | 利用規程 | マニュアル |
73 | 小型真空蒸着装置 | VTR-060M/ERH | 利用規程 | マニュアル |
74 | 導電薄膜作製用コンパクトイオンスパッタ装置 | SC-701Mkll ADVANCE | 利用規程 | マニュアル |
75 | ナノ秒発光顕微分光装置 | 利用規程 | マニュアル | |
76 | ピコ秒線形顕微分光装置 | 利用規程 | マニュアル | |
77 | フェムト秒近赤外顕微分光装置 | 利用規程 | マニュアル | |
- | 共通試料準備室 | - | 利用規程 | |
- | ドラフト(試料準備室内) | - | 利用規程 | |
- | 暗室 (Cゾーン) | - | 利用規程 | |
- | 合成系低温室 | - | 利用規程 | |
- | 生物化学系低温室 | - | 利用規程 |